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新一代晶圓級封裝(WLCSP)技術介紹

新一代晶圓級封裝(WLCSP)技術介紹

  WLCSP(Wafer-Level Chip-Scale Package)是一種將晶圓級封裝(WLP)和芯片尺寸封裝(CSP)合為一體的封裝技術。芯片尺寸封裝(CSP)是指整個package的麵積相比於silicon總麵積不超過120%的封裝技術。該技術有效促進集成電路的小型化,但是其不適合服務器級處理器的應用。晶圓級封裝(WLP)是指在晶圓前道工序完成後,直接對晶圓進行封裝,再切割分離成…

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晶圓代工企業日子不好過 期盼下半年複蘇-ELT晶圓壓膜機

晶圓代工企業日子不好過 期盼下半年複蘇-ELT晶圓壓膜機

  台積電的庫存去化時間將比原先預期更長。由於總體經濟不佳和市場需求疲弱,庫存去化可能要到今年第三季才能結束。雖然受到庫存調整的持續影響,不含存儲器的半導體產業、晶圓代工產業以及台積電本身的營收都將衰退,但台積電的表現仍將優於產業平均水平。  ChatGPT的走紅引起了AI風潮,業界關注ChatGPT效應是否有助於晶圓代工廠商的後續發展。魏哲家表示,ChatGPT確實對庫存去化有所幫助,但目前能預…

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焊點中空洞形成的機理及除91夜夜蜜桃臀一区二区三区方案

焊點中空洞形成的機理及除91夜夜蜜桃臀一区二区三区方案

  焊點中空洞形成的機理多年來一直是研究的主題。已經確定了許多空洞類型和形成機製。最引人注目的是大空洞,大空洞形成的主要因素似乎是焊膏中的化學成分。  微空洞、收縮空洞和Kirkendall空洞也是眾所周知的和備有證據的空洞類型,但不屬於本文的討論範圍。多年來已建立了許多減少空洞形成的技術。  調整焊膏化學成分、回流焊溫度曲線、組件、PCB 和模板設計或塗飾,是當前正在廣泛使用的一些優化工具。…

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先進晶圓級封裝技術主要包括的五大要素

先進晶圓級封裝技術主要包括的五大要素

  先進晶圓級封裝技術,主要包括了五大要素:  01 晶圓級凸塊(Wafer Bumping)技術  02 扇入型(Fan-In)晶圓級封裝技術  03 扇出型(Fan-Out)晶圓級封裝技術  04 2.5D 晶圓級封裝技術(包含IPD)  05 3D 晶圓級封裝技術(包含IPD)  晶圓凸塊(Wafer Bumping),顧名思義,即是在切割晶圓之前,於晶圓的預設位置上形成或安裝焊球(亦稱凸塊…

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蜜桃视频APP免费下载污高深寬比幹膜填覆技術對比分析-真空貼膜機

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  目前熱門的3D IC封裝、HBM以及FOWLP等先進封裝工藝都可見到蜜桃视频APP免费下载污的蹤跡。  真空壓膜通常是指在設備的真空模塊內將幹膜材料與基材進行貼合,完成加熱壓膜動作,常見的蜜桃视频APP免费下载污通常都是采用單段加壓覆膜以及預貼膜的方式,但該方式對於表麵具有許多細微凸凹結構的晶圓(如高深寬比TSV孔洞、高密度Cu Pillar Bump等)無法滿足其高深寬比結構的幹膜填覆的晶圓級封裝需求;另外,先…

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芯片與粘接材料間空洞解決方案-ELT蜜桃视频网站WWW

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  芯片與粘接材料間空洞解決方案  引起膠水91夜夜蜜桃臀一区二区三区的原因一般有兩種,其一,在倒入膠水時候,導致空氣進入膠水內部,而膠水黏度比較高,使空氣無法從中逃脫;其二,調試膠水不均勻,兩種就是導致膠水出現91夜夜蜜桃臀一区二区三区最直接的原因。芯片粘接過程中空洞的出現會導致很多問題的出現,最嚴重,全線無法生產,需要保證粘接效果無91夜夜蜜桃臀一区二区三区也是非常重要的。  粘接焊接91夜夜蜜桃臀一区二区三区解決方案:  01 潔淨度  使用芯片粘接工藝時,應保證粘接界麵有良好…

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國內功率半導體市場爆發 除泡難題急帶解決

國內功率半導體市場爆發 除泡難題急帶解決

  功率半導體的功能主要是對電能進行轉換,對電路進行控製,改變電子裝置中的電壓和頻率,直流或交流等,具有處理高電壓,大電流的能力。  在過去相當長的一段時間裏,功率半導體市場一直由歐、美、日等外資巨頭牢牢占據著主導地位,隨著近年來新能源汽車的發展,許多本土企業也紛紛入局。放眼市場,不論是傳統Si功率器件IGBT、MOSFET,還是以SiC、GaN等為代表的第三代半導體,國內都有企業布局。  01 …

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先進封裝TSV矽通孔技術及除91夜夜蜜桃臀一区二区三区解決方案

先進封裝TSV矽通孔技術及除91夜夜蜜桃臀一区二区三区解決方案

  什麽是TSV?TSV是矽通孔的簡寫,利用通孔進行垂直的電連接,貫穿WAFER或芯片。一般來講這種技術被一些類似台積電,聯電和格芯等全球代工廠代工廠製造的。TSV可以替代引線鍵合和倒裝焊技術。  TSV用於2.5 d和3 d封裝,用於電連接。根據TSV被製作的時間順序有3種類型的TSV,分別指在晶圓製作工藝中的前,中或後段。第一個在晶圓製作工藝前段,意味著TSV在FEOL段前加工而成。因此工…

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點膠和底部填充的路徑與模式及真空脫泡機

點膠和底部填充的路徑與模式及真空脫泡機

  點膠和底部填充的路徑與模式基本要求  在設計點膠路徑時,不僅要考慮點膠效率和填充流動形態,為了在BGA及類似器件的邊緣良好成型,還要認真考慮器件邊緣溢膠區域限製。日前的電子產品,由於其高密度組裝特點,其溢膠區域通常受到限製。某些特定區域溢膠甚至不能超過器件邊沿的0.1mm,較普遍的是小於0.2mm,見圖7A和7B;同時限製區域外的膠痕厚度不能高過PCB表麵20um。由此可見,對於手持式產品的高…

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